Problem： subrecipe cause lot abort
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納米納米（符號 nm，英式英文：nanometre、美式英文：nanometer，字首 nano 在希臘文中的原意是“侏儒”的意思），是一個長度單位...
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CD critical dimension 關(guān)鍵尺寸 SEM 掃描式電子顯微鏡（scanning electron microscope），簡稱...
專題公告
半導(dǎo)體工藝中的圖形轉(zhuǎn)移過程
從設(shè)計(jì)文件到電路實(shí)現(xiàn)的工藝框架
這是一個復(fù)雜的過程，要經(jīng)過工藝定義的各個相關(guān)部門的密切合作，在光刻定義的圖形基礎(chǔ)上，由Dry etch，wetprocess，diffusion,implant,thin film 等部門協(xié)同工作而完成實(shí)體電路的搭建.
簡單的電路實(shí)現(xiàn)要在Fab里流片十幾天，經(jīng)過十幾個光刻步驟，復(fù)雜的可能要幾十個步驟，所謂的cycle time（CT）則可能需要超過一個月甚至更多時(shí)間.
做過光刻的人可能都會對以下東西感興趣
CD：Cr...
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