定義器件結(jié)構(gòu)
從atlas定義器件結(jié)構(gòu)
1. 定義網(wǎng)格
mesh [space.mult=<value>] # space.mult參數(shù)可選,用來(lái)定義網(wǎng)格間距的比例因子,即在spacing的基礎(chǔ)上倍乘, default 1
x.mesh location=<value> spacing=<value> # 定義x方向的網(wǎng)格
...
y.mesh location=<value> spacing=<value> # 定義y方向的網(wǎng)格
...
這里,通過(guò)定義每個(gè)坐標(biāo)值處的網(wǎng)格間距來(lái)定義整個(gè)器件的網(wǎng)格分布,在相鄰兩個(gè)定義了網(wǎng)格間距的坐標(biāo)值之間的區(qū)域,網(wǎng)格的間距漸變。例如:
go atlas
mesh space.mult=1
#####################################################################################
x.mesh location=0.0 spacing=0.05
x.mesh location=0.2 spacing=0.1
x.mesh location=0.5 spacing=0.05
#####################################################################################
y.mesh location=0.0 spacing=0.05
y.mesh location=1.0 spacing=0.05
region y.min=0.0 y.max=0.5 number=1 silicon
region y.min=0.5 y.max=1.0 number=2 silicon
electrode name=anode top
electrode name=cathode bottom
doping uniform conc=1e20 n.type region=1
doping uniform conc=1e18 p.type region=2
save outfile=diode.str
tonyplot diode.str
quit
這里在x坐標(biāo)為0和0.5的地方定義網(wǎng)格間距為0.05,在x坐標(biāo)為0.2的地方定義網(wǎng)格間距為0.1。那么x坐標(biāo)從0到0.2的區(qū)域內(nèi),網(wǎng)格逐漸變寬,x坐標(biāo)從0.2到0.5的區(qū)域內(nèi),網(wǎng)格逐漸變窄。如下圖所示:
[圖片上傳失敗...(image-d025ba-1513216975786)]
改變space.mult參數(shù)的值為0.5和2,網(wǎng)格間距分別變密集和稀疏。
[圖片上傳失敗...(image-5da59b-1513216975786)]
[圖片上傳失敗...(image-ae6528-1513216975786)]
2. 定義區(qū)域
區(qū)域劃分的依據(jù)是:相同的材料類型可以劃分成不同區(qū)域,不同的材料類型不能劃分到同一個(gè)區(qū)域里。
region number=<integer> <material_type> [<position parameters>]
每個(gè)區(qū)域都有自己的編號(hào),這個(gè)編號(hào)必須從整數(shù)1開(kāi)始,然后依次遞增。材料類型從Silvaco內(nèi)建材料庫(kù)中選擇,也可以自己定制材料參數(shù)。位置參數(shù)包括:x.min, x.max, y.min, y.max。
應(yīng)當(dāng)使mesh范圍內(nèi)都有region的定義,如果存在沒(méi)有定義的地方將會(huì)發(fā)出警告。可以把沒(méi)有材料的地方定義為material=air。
3. 定義電極
electrode name=<EnglishName> [number=<integer>] [substrate] <position> <region>
位置參數(shù):
-
x.min, x.max, y.min, y.max組成的矩形 - 可以按照剖面的特定位置,例如
top, bottom, left, right, substrate - 指定一點(diǎn)和電極在
x方向的長(zhǎng)度
電極的接觸類型默認(rèn)為歐姆接觸。
舉例:
-
指定發(fā)射極范圍x from 1.75 to 2.0, y from -0.05 to 0.05
electrode name=emitter x.min=1.75 x.max=2.0 y.min=-0.05 y.max=0.05 -
定義mosfet中源極從器件左邊緣開(kāi)始向右,長(zhǎng)度為0.25
electrode name=source y.min=0 left length=0.25 -
定義mosfet中漏極從器件右邊緣開(kāi)始向左,長(zhǎng)度為0.25
electrode name=drain y.min=0 right length=0.25 -
定義表面和底部電極
electrode name=anode top electrode name=cathode bottom
4. 定義摻雜
4.1 直接在命令中定義器件摻雜
doping <distribution_type> <dopant_type> <position_parameters>
-
distribution_type:-
uniform:均勻分布-
concentration:濃度
doping uniform concentration=1e16 n.type region=1在區(qū)域標(biāo)號(hào)為
1的區(qū)域定義n型均勻摻雜,濃度為1e16 cm^-3 -
-
gaussian:高斯分布$$g(x)=1/(\sqrt {x\pi} \sigma) e{-(x-\mu)2/(2\sigma^2)}$$
-
concentration:峰值濃度,peak concentration -
peak:峰值位置的y坐標(biāo) -
characteristic:與標(biāo)準(zhǔn)差相關(guān),standard deviation = (characteristic/sqrt(2)) um -
ratio.lateral:與指定區(qū)域外橫向分布的標(biāo)準(zhǔn)差有關(guān),默認(rèn)為characteristic值的70%。 -
x.left=<number> x.right=<number>:參考線,峰值濃度將沿著這條線分布,在垂直于這條線的方向上,濃度按上一個(gè)參數(shù)定義的標(biāo)準(zhǔn)差呈現(xiàn)高斯分布。在平行于這條線的方向,濃度將按ratio.lateral進(jìn)行分布。 -
junction:結(jié)深。舉個(gè)例子:假如已經(jīng)定義了一塊p型區(qū)域,現(xiàn)在要在這塊p型區(qū)域上進(jìn)行n型摻雜,摻雜分布為高斯分布。這時(shí)候可以指定結(jié)深,而不用characteristic參數(shù)指定標(biāo)準(zhǔn)差了。
doping gaussian concentration=1e18 peak=0.1 characteristic=0.05 x.left=0.0 \ x.right=1.0 p.type region=1在區(qū)域標(biāo)號(hào)為
1的區(qū)域定義p型摻雜,雜質(zhì)分布為高斯分布,參考線為y=0.1, x from 0.0 to 1.0的一段線段,在0.0<x<1.0的區(qū)域部分,同一水平線上雜質(zhì)濃度相等,不同水平線上雜質(zhì)濃度為高斯分布,雜質(zhì)分布的標(biāo)準(zhǔn)差為(0.05/sqrt(2)),在x<0 or x>1.0的區(qū)域,雜質(zhì)的橫向分布標(biāo)準(zhǔn)差為70% of standard deviation。 -
-
erfc:誤差函數(shù)分布$$erfc(z)=2/\sqrt{\pi}\int{+}_{z}e{-y^2}dy$$
-
concentration: -
peak: -
ratio.lateral: -
erfc.lateral?:??????????????????? -
junction: -
x.min=<number> x.max=<number>: - 以上參數(shù)可以參考高斯分布參數(shù)的含義
-
-
-
dopant_typen.typep.type
-
position_parameters-
x.min, x.max, y.min, y.max組成的矩形 -
region指定標(biāo)號(hào),例如:region=1標(biāo)號(hào)為1的區(qū)域
-
4.2 通過(guò)文件定義器件摻雜
doping x.min=0.0 x.max=1.0 y.min=0.0 y.max=1.0 n.type ascii infile=concdata
這句命令指定摻雜分布從一個(gè)名為concdata的ascii文件中獲得,這個(gè)文件內(nèi)部信息由兩列數(shù)字表示,左邊表示深度(um),右邊表示摻雜濃度(cm^-3)。