序論

一、什么是半導(dǎo)體

按導(dǎo)電能力區(qū)分

導(dǎo)電能力 --- 電阻率 Ω\cdotcm

導(dǎo)體的電阻率 : <10-3 Ω\cdotcm
絕緣體的電阻率 : >109 Ω\cdotcm

半導(dǎo)體的電阻率介于 10-3 Ω\cdotcm 到 109 Ω\cdotcm
此外,半導(dǎo)體還具有一些重要的性質(zhì)。

  1. 溫度升高可以顯著的提高半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力
    例如: 對(duì)于Si,當(dāng)從30℃降到20℃情況下,其電阻率增大一倍。
    可以利用這個(gè)性質(zhì)做溫度傳感器
    影響器件的穩(wěn)定性,需要補(bǔ)償措施解決
元素半導(dǎo)體 (第一代)
Ge 鍺
Si  硅
化合物半導(dǎo)體 (第二代)
GaAs 砷化鎵  III-V 族
第三代化合物半導(dǎo)體
GaN   SiC 等   
微波、大功率、腐蝕環(huán)境下應(yīng)用
  1. 微量雜質(zhì)的含量可以顯著的改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力
    例如: 若每一百萬(wàn)個(gè)Si原子當(dāng)中摻入一個(gè)雜質(zhì)原子(如摻入磷)(樣品純度高達(dá)99.9999%),則在室溫下(27℃. T=300K)其電阻率由21,4000 Ω\cdotcm 降至大約 0.2 Ω\cdotcm 以下。

  2. 光照可以顯著的改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力
    例如:淀積在絕緣基片上的硫化鎘(CdS)薄膜,其在無(wú)光照下的電阻值(暗電阻)約幾十MΩ,光照下電阻值約為幾十KΩ

R= ρ\frac{L}{S}

  1. 另外,磁場(chǎng)、電場(chǎng)也可以顯著的改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力

所以,半導(dǎo)體是一種其自身性質(zhì)容易受到外界的光、熱、磁、電以及微量雜志含量變化而發(fā)生變化的材料。

二、本課程所涉及的內(nèi)容

半導(dǎo)體物理就是研究半導(dǎo)體的性質(zhì)如何隨著外界條件的變化的原因及其規(guī)律。


預(yù)備知識(shí):

  1. 化學(xué)鍵的性質(zhì)與相應(yīng)的晶體結(jié)構(gòu)
  2. 金剛石結(jié)構(gòu)的各向異性

晶體

  1. 單晶體:整塊晶體由原子(離子)的一種規(guī)則的排列方式所貫穿始終
  2. 多晶體:由許多小晶粒雜亂的堆積而成

常見的Si,Ge,GaAs都是晶體

非晶體

非晶態(tài)半導(dǎo)體,如 a-Si


晶體具有一定的外形和固定的熔點(diǎn),更重要的是,組成晶體的原子(離子)在較大的范圍內(nèi)(至少是微米數(shù)量級(jí))都是按照一定的方式有規(guī)則的排列而成——稱為長(zhǎng)程有序
非晶沒有固定的外形和固定的熔點(diǎn),其內(nèi)部結(jié)構(gòu)也不存在長(zhǎng)程有序,但是在較小的范圍內(nèi)(幾個(gè)原子間距內(nèi))存在著結(jié)構(gòu)上的有序排列——稱為短程有序。


1P6M 工藝 :一層多晶,六層金屬布線,總共7層布線。

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