半導(dǎo)體材料的測試表征技術(shù)之光致發(fā)光(PL)

姓名:嚴(yán)欣陽? ? ? 學(xué)號:21009102224? ? 學(xué)院:海棠一號書院

【嵌牛導(dǎo)讀】

光致發(fā)光光譜用于探測材料的電子結(jié)構(gòu),是一種非接觸、無損傷的測試方法。從原理上講,光照射到樣品上,被樣品吸收,產(chǎn)生光激發(fā)過程。光激發(fā)導(dǎo)致材料躍遷到較高的電子態(tài),然后在馳豫過程后釋放能量,(光子)回到較低的能級。該過程中的光輻射或者發(fā)光就稱為光致發(fā)光,即PL。

基本說來,光致發(fā)光是分子受光子激發(fā)后發(fā)生的一種去激發(fā)過程。在吸收紫外和可見電磁輻射的過程中,分子受激躍遷到激發(fā)電子態(tài)。多數(shù)分子將通過與其他分子的碰撞,以熱的形式散發(fā)掉多余的這部分能量;部分分子則以光的形式釋放出這部分能量,放射出光的波長不同于所吸收輻射的波長。后一種過程稱為光致發(fā)光。從本質(zhì)上講,光致發(fā)光是一種涉及光子的激發(fā)-去激發(fā)過程。

【嵌牛鼻子】光致發(fā)光(PL)在半導(dǎo)體測試中的應(yīng)用探索

【嵌牛提問】光致發(fā)光可以干什么?

【嵌牛正文】

一、光致發(fā)光的定義

? 光致發(fā)光是指半導(dǎo)體材料在光的激發(fā)下,使電子從價帶躍遷至導(dǎo)帶,并在價帶留下空穴,電子和空穴各自在導(dǎo)帶和價帶中占據(jù)最低激發(fā)態(tài),即導(dǎo)帶底和價帶頂,成為準(zhǔn)平衡態(tài),也是一種暫態(tài),不穩(wěn)定狀態(tài),準(zhǔn)平衡態(tài)下的電子和空穴復(fù)合發(fā)光,產(chǎn)生特定波長的光子,通過探測光的強度或能量分布得到曲線,形成光致發(fā)光譜(Photoluminescence Spectroscopy,簡稱PL譜)。

二、光致發(fā)光光譜的衰減時間常數(shù)有什么物理意義

? 在實驗測試中,熒光發(fā)光光譜包括激發(fā)譜和發(fā)射譜兩種。激發(fā)譜是使用不同波長激發(fā)光測試發(fā)光材料在某一波長處熒光強度的變化情況,即不同波長激發(fā)光的相對效率;發(fā)射譜則是在某一固定波長激發(fā)光作用下的熒光強度在不同波長處的分布情況,即熒光中不同波長的光成分的相對強度。一般情況下,光致發(fā)光光子的能量小于激發(fā)光子的能量(斯托克斯位移),在特定條件下發(fā)射光子的能量也可以超過激發(fā)光子的能量(反斯托克斯位移)。

由于光致發(fā)光(熒光或磷光)的特點是寬激發(fā)窄發(fā)射,所以測試時,需要選取一個能反映出所測材料發(fā)光效率的激發(fā)光波長。激發(fā)光波長的選擇一般沒有定論,簡單而常用的方法有兩種:1)激發(fā)譜:將熒光發(fā)光峰波長固定為發(fā)射波長(EM),然后做激發(fā)波長(EM)掃描,激發(fā)波長范圍要小于發(fā)射波長。一般選取激發(fā)譜最高峰位置對應(yīng)的波長作為激發(fā)光波長。2)紫外-可見光吸收測試:一般以最大吸收波長或等吸收點處的波長作為激發(fā)波長。

三、PL有什么運用

根據(jù)光學(xué)理論可知,能量常采用J為單位,一個光子的能量可以表示為:

E=hν

光子頻率ν可以表示為:

ν =c/λ

所以當(dāng)電子-空穴對在輻射復(fù)合產(chǎn)生光子時,電子處于導(dǎo)帶底,空穴處于價帶頂,則光子能量等于禁帶寬度Eg,禁帶寬度單位為eV, 此時禁帶寬度與波長之積為常數(shù)hc,所以

Egλ=hc

式中h為普朗克常數(shù),其值為4.136×10-15eV·s,c為光速,其值為3×10^8m/s。

藍光和綠光LED的發(fā)光核心區(qū)域是InGaN,是由GaN和InN按一定配比形成的合金,GaN和InN形成三元合金InxGa(1-x)N的禁帶寬度Eg(x) 與 In 組分x的關(guān)系滿足下式:

Eg InGaN =(1-x)Eg(GaN)+xEg(InN)-bx(1-x)

其中Eg (GaN) =3.42eV;Eg (InN) =0.70eV;x是 InN 的摩爾分?jǐn)?shù); b為耦合系數(shù)。(可以取常用的b 為 1 .43 eV)。因此可以通過對光致發(fā)光譜的測量計算得到InxGa(1-x)N的In組份x。

從光譜中獲取波長信息從而確定盡帶寬度和In 組份。

從光譜中獲取波長信息從而確定盡帶寬度和In 組份

表面形貌的AFM( Atomic Force Microscope )圖

表面形貌的SEM( Scanning electron microscope )圖


在激發(fā)光能量不是非常大的情況下,PL測試是一種無損的測試方法,可以快速、便捷地表征半導(dǎo)體材料的缺陷、雜質(zhì)以及材料的發(fā)光性能。

1、組分測定:對三元系或四元系合金,如InxGa1-xN等,通過PL峰位確定半導(dǎo)體材料的禁帶寬度,進而確定材料組分x;

2、雜質(zhì)識別:通過光譜中的特征譜線位置,可以識別材料中的雜質(zhì)元素;

3、雜質(zhì)濃度測定

4、變溫Pl可以測試材料/器件的發(fā)光效率;

5、半導(dǎo)體材料的少數(shù)載流子壽命;

6、位錯等缺陷的相關(guān)作用研究。

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