發(fā)簡信
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2020-03-07小劉科研筆記之刻蝕的基本要求和基本過程
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，干法刻蝕已經(jīng)成為工藝步驟中不可或缺的重要步驟，由于干法刻蝕對于薄膜材料具有良好的各項(xiàng)異性和選擇比，使得干法刻蝕在納米級和微...
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2020-03-05小劉科研筆記之電子束光刻中的臨近效應(yīng)以及其修正的方法
?近年來，電子束光刻的眾多優(yōu)勢凸顯出來，通過電子束直寫的形式將圖形直接轉(zhuǎn)移到晶圓上，不需掩膜版，直寫線寬最小可達(dá)10 nm，然而這種方法也存在一...
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2020-03-03小劉科研筆記之SEM-EDS聯(lián)用技術(shù)在表征科學(xué)中的應(yīng)用
表面分析技術(shù)是一種統(tǒng)稱，指的是利用電子、光子、離子等與材料表面進(jìn)行相互作用，分辨范圍從微米級到納米級，測量從表面散射或發(fā)射出來的各種離子、電子和...
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2020-02-29小劉科研筆記之簡析在實(shí)際應(yīng)用中，影響ICP刻蝕效果的因素
?在感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的工藝中，影響刻蝕形貌的因素很多，如：工藝參數(shù)里有源功率、RF功率、流量比、工作壓力、He壓、內(nèi)壁溫度。另外，chill...
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2020-02-28小劉科研筆記之以2 um線寬為例，淺析紫外光刻之多種曝光模式
本篇筆記來源于日常實(shí)驗(yàn)工作中的某一個(gè)案例。 一、實(shí)驗(yàn)設(shè)備介紹 SUSS紫外光刻機(jī)是設(shè)計(jì)用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，小批量生產(chǎn)的高分辨率光刻系統(tǒng)。SUSS紫外...
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2020-02-27小劉科研筆記之影響超聲清洗效果因素
超聲清洗是大功率超聲領(lǐng)域中最為普遍，應(yīng)用最為廣泛的清洗方法和應(yīng)用技術(shù)。超聲清洗不僅清洗效率高、效果好，而且可以對復(fù)雜零件、半導(dǎo)體、電子器件進(jìn)行清...
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2020-02-26小劉科研筆記之掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)組成、工作原理及其應(yīng)用
掃描電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，簡稱SEM），中文簡稱掃描電鏡，是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微...
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2020-02-25小劉科研筆記之電子束光刻的影響因素——前散射
?電子束光刻有著較高的靈活性和分辨率，但在實(shí)際應(yīng)用中，設(shè)計(jì)的圖形與最終曝光得到的圖形都會(huì)存在一定的偏差。造成這一現(xiàn)象的原因有很多，除了工藝上的影...
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2020-02-24小劉科研筆記之幾種常見的研磨拋光液的優(yōu)劣勢分析
研磨拋光是半導(dǎo)體加工過程中的一項(xiàng)重要工藝，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體表面進(jìn)行加工， 研磨液、拋光液是影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的重要因素。 一、簡析幾種常見的研磨...
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