隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，干法刻蝕已經(jīng)成為工藝步驟中不可或缺的重要步驟，由于干法刻蝕對(duì)于薄膜材料具有良好的各項(xiàng)異性和選擇比，使得干法刻蝕在納米級(jí)和微米級(jí)，尤其是小線寬的制程中的應(yīng)...
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2020-03-07小劉科研筆記之刻蝕的基本要求和基本過(guò)程
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2020-03-05小劉科研筆記之電子束光刻中的臨近效應(yīng)以及其修正的方法
?近年來(lái)，電子束光刻的眾多優(yōu)勢(shì)凸顯出來(lái)，通過(guò)電子束直寫的形式將圖形直接轉(zhuǎn)移到晶圓上，不需掩膜版，直寫線寬最小可達(dá)10 nm，然而這種方法也存在一些不足，像曝光時(shí)間長(zhǎng)，價(jià)格昂貴...
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2020-03-03小劉科研筆記之SEM-EDS聯(lián)用技術(shù)在表征科學(xué)中的應(yīng)用
表面分析技術(shù)是一種統(tǒng)稱，指的是利用電子、光子、離子等與材料表面進(jìn)行相互作用，分辨范圍從微米級(jí)到納米級(jí)，測(cè)量從表面散射或發(fā)射出來(lái)的各種離子、電子和光子的質(zhì)譜、能譜、光譜等，對(duì)材...
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2020-02-29小劉科研筆記之簡(jiǎn)析在實(shí)際應(yīng)用中，影響ICP刻蝕效果的因素
?在感應(yīng)耦合等離子體刻蝕的工藝中，影響刻蝕形貌的因素很多，如：工藝參數(shù)里有源功率、RF功率、流量比、工作壓力、He壓、內(nèi)壁溫度。另外，chiller到溫時(shí)間、掩模形貌，甚至反...
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2020-02-28小劉科研筆記之以2 um線寬為例，淺析紫外光刻之多種曝光模式
本篇筆記來(lái)源于日常實(shí)驗(yàn)工作中的某一個(gè)案例。 一、實(shí)驗(yàn)設(shè)備介紹 SUSS紫外光刻機(jī)是設(shè)計(jì)用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，小批量生產(chǎn)的高分辨率光刻系統(tǒng)。SUSS紫外光刻機(jī)具有以下幾個(gè)特點(diǎn)： 1、...
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2020-02-27小劉科研筆記之影響超聲清洗效果因素
超聲清洗是大功率超聲領(lǐng)域中最為普遍，應(yīng)用最為廣泛的清洗方法和應(yīng)用技術(shù)。超聲清洗不僅清洗效率高、效果好，而且可以對(duì)復(fù)雜零件、半導(dǎo)體、電子器件進(jìn)行清洗，對(duì)于污染物的清洗范圍也非常...
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2020-02-26小劉科研筆記之掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)組成、工作原理及其應(yīng)用
掃描電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，簡(jiǎn)稱SEM），中文簡(jiǎn)稱掃描電鏡，是介于透射電鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種微觀形貌觀察手段。在材料領(lǐng)域中，...
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2020-02-25小劉科研筆記之電子束光刻的影響因素——前散射
?電子束光刻有著較高的靈活性和分辨率，但在實(shí)際應(yīng)用中，設(shè)計(jì)的圖形與最終曝光得到的圖形都會(huì)存在一定的偏差。造成這一現(xiàn)象的原因有很多，除了工藝上的影響之外，一個(gè)重要的因素是電子束...
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2020-02-24小劉科研筆記之幾種常見(jiàn)的研磨拋光液的優(yōu)劣勢(shì)分析
研磨拋光是半導(dǎo)體加工過(guò)程中的一項(xiàng)重要工藝，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體表面進(jìn)行加工， 研磨液、拋光液是影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的重要因素。 一、簡(jiǎn)析幾種常見(jiàn)的研磨液的優(yōu)劣勢(shì) 研磨是半導(dǎo)體加工過(guò)...
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2020-02-18小劉科研筆記之氬離子精密拋光（可用于電鏡制樣）
氬離子精密拋光刻蝕鍍膜儀是一款集拋光與鍍膜于一身的桌面型制樣設(shè)備。對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。通過(guò)利用兩個(gè)寬束氬離子源對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光，去除損傷層，從...
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2020-02-13小劉科研筆記之光刻技術(shù)中的襯底粘附性問(wèn)題
在光刻工藝中遇到襯底粘附性差的情況下，是如何通過(guò)調(diào)整試驗(yàn)方法解決的。 ?Question：此次的工藝是需要在某款負(fù)膠上進(jìn)行紫外光刻，光刻膠參數(shù)為：厚2.6μm，線條寬度1.5...
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2020-02-12小劉科研筆記之激光共聚焦原子力顯微鏡形貌、成分和結(jié)構(gòu)的表征是材料的生長(zhǎng)、鑒別、加工、研究和應(yīng)用等過(guò)程中很重要的一個(gè)步驟。本篇筆記將以華慧高芯網(wǎng)激光共聚焦原子力顯微鏡為例描述該設(shè)備在材料表征的功能與應(yīng)用。 一、激...
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2020-02-12小劉科研筆記之光刻工藝的實(shí)操
?光刻（lithography）是芯片制造中的一項(xiàng)最為關(guān)鍵的技術(shù)，也是微納器件制備過(guò)程中必不可少的一道工藝。一般我們將光刻工藝分為8個(gè)步驟：氣相成底膜、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)和...
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2020-02-11-2小劉科研筆記之RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
隨著大規(guī)模集成電路制造朝著更高集成度、更小關(guān)鍵尺寸以及更大晶圓半徑的方向發(fā)展，對(duì)刻蝕工藝的精度要求越來(lái)越高，所以濕法刻蝕的圖形保真性不理想、刻蝕線寬難以控制、表面粗糙等不適用...
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2020-02-11-1小劉科研筆記之實(shí)例：掃描電鏡下的蝴蝶世界
參考文獻(xiàn)： 1. 邱兆美.蝴蝶鱗片微觀結(jié)構(gòu)與模型分析[J].農(nóng)業(yè)機(jī)械學(xué)報(bào)，2009； 2.關(guān)會(huì)英.典型蝴蝶鱗片結(jié)構(gòu)色形成機(jī)理及其微觀結(jié)構(gòu)研究[D].吉林大學(xué)，2007 一、前...
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2020-02-10-2小劉科研筆記之PECVD等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
一、什么是PECVD PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使...
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2020-02-10-1小劉科研筆記之化學(xué)試劑的常理知識(shí)
化學(xué)試劑（chemical reagent）是進(jìn)行化學(xué)研究、成分分析的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，是科技進(jìn)步的重要條件，廣泛用于物質(zhì)的合成、分離、定性和定量分析，可以說(shuō)在日常工作中，工廠、...
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2020-02-08-2小劉科研筆記之FIB-SEM雙束系統(tǒng)在材料研究中的應(yīng)用
聚焦離子束掃描電鏡雙束系統(tǒng)（FIB-SEM）是在SEM的基礎(chǔ)上增加了聚焦離子束鏡筒的雙束系統(tǒng)，同時(shí)具備微納加工和成像的功能，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究和半導(dǎo)體芯片研發(fā)等多個(gè)領(lǐng)域。本文...
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2020-02-08-1小劉科研筆記之半導(dǎo)體材料的研磨拋光
昨日因?yàn)楣ぷ鲀?nèi)容太多，加上一直學(xué)習(xí)，就沒(méi)能更新，實(shí)屬抱歉！? 磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的必要方式，然而研磨會(huì)導(dǎo)致芯片表面的完整性變差。因此，拋光的一致性、均勻性和...
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2020-02-06-2小劉科研筆記之關(guān)于超凈服不得不說(shuō)的幾件事
芯片生產(chǎn)對(duì)環(huán)境的要求十分苛刻，其中潔凈室為重中之重。為了保證作業(yè)空間的潔凈度及防靜電要求，潔凈室內(nèi)人員穿戴也有其特殊的規(guī)定，其中包括無(wú)塵服、無(wú)塵靴、防靜電手環(huán)、網(wǎng)帽、口罩、手...
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